Установка отмывки пластин и фотошаблонов LCS-PC

Главная /// Фотолитография /// Установка отмывки пластин и фотошаблонов LCS-PC

Установка предназначена для проведения очистки пластин и фотошаблонов c использованием следующих процессов:

Щеточная очистка с использованием моющего раствора и подогретой деионизованной воды
Химическая обработки в различных растворах (например, удаление следов фоторезиста в перекисно-аммиачном растворе)
Мегазвуковая отмывка
Промывка обратной стороны пластины или фотошаблона
Сушка высокоскоростным вращением с подачей азота

Особенности

Обработка пластин до диаметром до 200 мм и фотошаблонов до 178х178 мм
Удобное сенсорное управление
Мегазвуковая форсунка с рабочей частотой 1/2/3 МГц
Наличие встроенного блока обеспыливания
Установка может быть сконфигурирована под процесс Заказчика

Высокая повторяемость процесса

Процесс проявления происходит в автоматическом режиме и легко программируется с помощью сенсорного дисплея. Программное обеспечение позволяет задавать оператору даже самые сложные рецепты обработки, которые могут включать в себя следующие стадии:

Щеточная очистка с использованием моющего раствора и подогретой деионизованной воды
Химическая обработки в различных растворах (например, удаление следов фоторезиста в перекисно-аммиачном растворе)
Мегазвуковая отмывка
Промывка обратной стороны пластины или фотошаблона
Сушка высокоскоростным вращением с подачей азота

Изготовлена из химический стойких материалов

Все элементы установки, контактирующие с рабочими веществами, выполнены из современных материалов, обладающих высокой химической стойкостью: корпус установки – нержавеющая сталь, центрифуга – фторопласт или полипропилен, линии подачи рабочих веществ – материалы PFA, PEEK, Kalrez.

Для мелкосерийных производств

Простота в использовании и обслуживании, быстрая переналадка на новый технологический процесс делают данную установку оптимальной для использования в условиях мелкосерийного производства, научно-исследовательских институтов и лабораторий.